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等离子制砣设备

等离子制砣设备

一种等离子制砣用的挥发物收集装置的制作方法

2022年5月18日 1本公开涉及石英玻璃制造领域，具体涉及一种等离子制砣用的挥发物收集装置。 2高频等离子制砣工艺是采用2000度左右高频等离子火焰来融制石英砣产品的，在产品融制过程中会产生大量硅挥发物，必须利用排风系统摘要：本申请公开了一种等离子制砣用的挥发物收集装置。包括：管道本体和排放装置，本申请设计有管道本体，其包括管道和第二管道，管道的一端与第二管道的一端垂直连接，一种等离子制砣用的挥发物收集装置2015年12月23日械设备领域，主要目的在于使制砣机能够制备出大尺寸的石英玻璃。主要采用的技术方案为：石英玻璃制砣机，包括底座、升降座、升降机构和主轴。石英玻璃制砣机[发明专利] 百度文库2019年1月8日气炼制砣是利用氢氧焰作为热源来加热石英砂或天然石英的方法制备石英砣；等离子制砣是利用等离子体为热源，将原料熔化沉积制砣。各种高端石英制品还是通过二步法来石英砣的制备方法与流程 X技术网

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2022年7月27日 19国家知识产权局1实用新型专利10授权公告号45授权公告日1申请号9申请日01111173专利权人久智光电子材料科技有限公司地址河北省廊坊 2023年2月27日本发明涉及一种低羟基高纯石英砣生产工艺,该工艺基于一种制备系统来实现,制备系统包括给料系统,沉积炉,制砣机,高频加热系统,燃烧器和供气系统;高频加热系统产生热量,加一种低羟基高纯石英砣生产工艺百度学术2008年11月17日详细介绍了不同的天然、合成原料的加工工艺；电熔、气炼、合成、等离子、掺杂石英玻璃的不同熔制工艺；石英制品的热加工、冷加工及热处理方法；电弧法生产石英坩埚图书详情化学工业出版社有限公司 cip[0001]本发明涉及机械设备技术领域，特别是涉及一种石英玻璃制砣机。 [0002]石英玻璃可采用氢氧焰或等离子体为热源，原料可采用水晶粉在石英基底表面分布熔融制备而成；或采用含硅前石英玻璃制砣机的制作方法

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等离子预处理是对几乎所有类型材料（从塑料、金属和玻璃到纸板、纺织品和复合材料）进行微细清洁、表面活化和等离子镀膜的关键技术。越来越多的传统工业预处理方法正在被等离子技术取代，以使加工工艺更为有效和环保。创新对于 2024年10月10日等离子体熔制法是采用等离子体为热源，高纯石英砂为原料，直接熔融制备得到石英玻璃。该方法熔制过程中不会引入外界杂质，因而采用等离子熔制法制备的石英玻璃纯玻璃材料中的这颗“皇冠”，如何打造？要闻资讯中国粉体网2015年12月23日 3 CN A 说明书 1/8 页 Fra Baidu bibliotek 石英玻璃制砣机技术领域 [0001] 本发明涉及机械设备技术领域，特别是涉及一种石英玻璃制砣机。背景技术 [0002] 石英玻璃可采用氢氧焰或等离子体为热源，原料可采用水晶粉在石英基底表面分布石英玻璃制砣机[发明专利] 百度文库本发明涉及一种低羟基实心石英砣的制备方法，属石英玻璃熔制技术领域。它是用等离子体装置作为热源，取代传统气炼制砣设备中的氢氧焰燃烧器，将石英粉料送入等离子体装置中或通过下料管进入火焰区，喷洒到石英玻璃靶托上，通过石英靶托的匀速旋转和下降运动，使靶面与等离子火焰 CNA 一种低羟基实心石英砣的制备方法 Google

【干货】做半导体用石英材料的10年经验总结工艺

2018年8月30日光纤行业要求石英材料的红外透过能力，只能选择高纯进口粉料+等离子制砣工艺制取的石英材料，或采用化学合成工艺制取的合成石英材料；半导体工艺尽量选择气炼法或等离子法取得的材料，电光源等低价值应用本身不要求石英材料的高纯度，所以可以选择低2020年10月26日与等离子熔融工艺石英玻璃成型设备配套的真空系统框如 £ 2 所示，可实现成型设备加热桶内的真空度（气压）在01~700Torr范围内的精确控制，控制精度可达到±1%以内。 £ 2 真空系统框如 £ 2所示，真空系统的设计采用了下游控制模式，也可在等离子熔融工艺过程中，将高纯石英砂注入到旋转炉中 2019年1月8日二步法通过制成石英砣来二次加工成石英制品，这种方法的优点是生产工艺灵活。制砣的工艺主要有气炼制砣和等离子制砣。气炼制砣是利用氢氧焰作为热源来加热石英砂或天然石英的方法制备石英砣；等离子制砣是利用等离子体为热源，将原料熔化沉积制砣。石英砣的制备方法与流程 X技术网本发明涉及机械设备，特别是涉及一种石英玻璃制砣机。背景技术石英玻璃可采用氢氧焰或等离子体为热源，原料可采用水晶粉在石英基底表面分布熔融制备而成；或采用含硅前驱体(通常为SiCl4)原料经水解或氧化反应产生的S1jfi米颗粒在石英基底表面沉积熔融制备而成。石英玻璃制砣机是制备上述石英玻璃制砣机的制作方法

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2015年12月21日【技术实现步骤摘要】本技术涉及机械设备，特别是涉及一种石英玻璃制砣机。技术介绍石英玻璃可采用氢氧焰或等离子体为热源，原料可采用水晶粉在石英基底表面分布熔融制备而成；或采用含硅前驱体(通常为SiCl4)原料经水解或氧化反应产生的S1jfi米颗粒在石英基底表面沉积熔融制备而成。CVD制程工艺及设备介绍 2014年05月10日李广录主要内容 1PECVD制程工艺介绍 2PECVD设备介绍 PECVD制程工艺介绍 1TFTLCD基本概念 2CVD工程目的及原理介绍 3PECVD设备及反应原理 4工艺参数及检查项目 TFTLCD基本概念 Thin Film TransistorCVD制程工艺及设备介绍百度文库等离子旋转电极雾化制粉设备（AVIPREP），主要用于制备镍基高温合金粉末、钛合金粉末、不锈钢粉末及难熔金属粉末等，粉末产品综合性能优异，广泛应用于增材制造（3D打印）、热喷涂、粉末冶金、热等静压等制造工艺。等离子旋转电极雾化制粉设备中航迈特2022年9月30日二步法通过制成石英砣来二次加工成石英制品，这种方法的优点是生产工艺灵活。制砣的工艺主要有气炼制砣和等离子制砣。气炼制砣是利用氢氧焰作为热源来加热石英砂或天然石英的方法制备石英砣；等离子制砣是利用等离子体为热源，将原料熔化沉积制砣。气炼石英砣生产工艺百度知道

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2022年3月19日光纤行业要求石英材料的红外透过能力，只能选择高纯进口粉料+等离子制砣工艺制取的石英材料，或采用化学合成工艺制取的合成石英材料;半导体工艺尽量选择气炼法或等离子法取得的材料，电光源等低价值应用本身不要求石英材料的高纯度，所以可以选择低2021年3月24日石英砣技术也是朝着“精、净、大、专”方向发展。制备石英砣的工艺主要有气炼制砣和等离子制砣。气炼制砣是利用氢氧焰作为热源来加热石英砂或天然石英的方法制备石英砣；等离子制砣是利用等离子体为热源，将原料熔化沉积制砣。各种高端石英制品还是技术参数中建材衢州金格兰2024年7月31日氢氧气炼法是指利用氢气和氧气，使用特殊设计的燃烧器，在专用设备上熔制石英玻璃的方法。早期较大口径的透明石英玻璃管和坩埚是用石英粉料在专用设备上利用氢氧焰直接熔制。氢氧气炼法工艺设备简单，不需要二次百亿光纤市场，石英材料成为“顶流”背后2020年4月4日光纤行业要求石英材料的红外透过能力，只能选择高纯进口粉料+等离子制砣工艺制取的石英材料，或采用化学合成工艺制取的合成石英材料；半导体工艺尽量选择气炼法或等离子法取得的材料，电光源等低价值应用本身不要求石英材料的高纯度，所以可以选择低半导体用石英材料知识

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等离子体外部沉积 (POD) 该工艺使用等离子体热源来“灼烧”化学前驱物，并在旋转靶材上沉积薄玻璃层。靶材可以是一个管件或一个实心棒，不一定是圆形。由于等离子体的高温性，这种工艺最适合生产掺氟熔融石英。二氧化硅中可达到的最大氟含量是找等离子处理设备品牌，上阿里巴巴1688 海量货源首单包邮 48小时发货 7+天包换共找到 5359条真空等离子清洗机设备半导休镀膜前处理 PCB制程元器件封装前震华等离子处理设备等离子处理设备价格、图片、排行阿里巴巴2023年3月31日包裹体、粒度分布与颗粒形状对产品的影响，梳理了电熔法、气炼法和等离子体熔制法等熔融石英玻璃制备工艺现状及改进措施发展，提出了存在的问题及今后发展建议，为熔融石英玻璃产业的发展提供参考。关键词熔融石英玻璃；制备工艺；高纯石英熔融石英玻璃制备工艺研究进展 cgs2024年3月19日 44 电容耦合等离子体刻蚀设备电容耦合等离子体（CCP）刻蚀设备是一种由施加在极板上的射频（或直流）电源通过电容耦合的方式在反应腔内产生等离子体并用于刻蚀的设备。其刻蚀原理与反应离子刻蚀设备类似。CCP刻蚀设备的简化示意图如下所示。半导体工艺与设备5刻蚀工艺及设备知乎

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后在上海石英玻璃厂完善提高，形成批量生产。98产量2吨，150万。 36引进等离子二步法工艺北京605厂从法国引进二步法装备，等离子打砣机三台，无接触拉管设备，生产高质量石英玻璃管，主要用于光纤包皮管。98产量12吨，800万。2012年8月13日七十年代石英玻璃形成行业；八十年代引进了电弧坩埚，等离子制砣 36引进等离子二步法工艺北京605厂从法国引进二步法装备，等离子打砣机三台，无接触拉管设备，生产高质量石英玻璃管，主要用于光纤包皮管。 98产量12吨，800万。 37合资石英管生产工艺大全rtf 豆丁网2024年3月19日三离子注入设备 31 基本结构离子注入设备包括7个基本模块：①离子源和吸极；②质量分析仪（即分析磁体）；③加速管；④扫描盘；⑤静电中和系统；⑥工艺腔；⑦剂量控制系统。所有模块都处在由真空系统建立半导体工艺与设备6离子注入工艺及设备知乎常压等离子设备低压等离子设备常压涂布设备真空镀膜系统镀膜代工刀具等离子电源供应器极化设备分析控制仪器电浆空气净化模组纳米粉环境喷雾空污环保等离子洗涤器解决方案 LCM 贴合制程清洁(COG、COF) Touch Panel制程常压等离子设备｜等离子技术馗鼎奈米科技股份有限

钛合金粉体等离子雾化制备设备及工艺研究百度学术

与其它雾化工艺相比,自行研究设计的钛合金超音速等离子雾化工艺替代了传统坩埚加热的工艺且具有更高的冷却效率。制得的钛合金粉末粒度多集中在5074μm之间,属于部分细粉范围内,可应用于医疗级及航空级等领域应用范畴, 使用等离子体的制程需要等离子体监测仪。等离子体监测仪用于监控半导体制程中的等离子体发射，例如蚀刻和溅射。HORIBA 为等离子体工艺提供两个现场实时等离子体监测仪：光发射光谱学蚀刻终点监测仪可以准确、重复地发出等离子体蚀刻终点的信号。等离子体监测仪 Horiba2023年5月20日气炼制砣是利用氢氧焰作为热源来加热石英砂或天然石英的方法制备石英砣。2、等离子制砣是利用等离子体为热源，将原料熔化沉积制砣。百度首页商城注册登录资讯视频图片知道文库贴吧采购地图更多答案我要提问气炼气炼石英砣生产流程百度知道2020年8月31日等离子体控制技术行业上游设备对外依存度高，中国大陆等离子体控制技术应用相关设备制造商需依靠进口供应，加大中游应用设备制造商的研发成本。在国家利好政策的推动下，中国等离子体控制技术应用相关设备制造商在部分生产设备逐步实现了技术突破。2019年中国等离子体控制技术（PCT）行业概览

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2023年9月12日离子注入工艺是一种在半导体制造中起到关键作用的技术，它能够将绝缘体转变为具有导电性的半导体材料。通过离子注入，我们可以将外层电子数不同的杂质引入纯净的硅晶体中，从而改变硅的微观结构，实现导电性。通常情况下，硅晶体的外层电子数为4，无法形成自由大气等离子清洗设备SAP013 ．各式材料之表面清洁、活化或改质．增加黏着或附着性．提升组件封装、黏着或印刷之可靠度．操作简单，可调整等离子功率、处理距离、清洁速度及气体种类等．可清洁物品材质：玻璃、塑料、金属、陶瓷、橡胶等大气等离子清洗设备｜等离子技术馗鼎奈米科技股份有限公司等离子炬雾化制粉设备(AVIPA)，是以纯金属或合金丝材为原料制备球形粉末的工艺，主要用于制备纯钛及钛合金、镍基合金、镍钛形状记忆合金等粉末，粉末产品广泛应用于增材制造（3D打印）、粉末冶金、热等静压、注射成形等制造工艺领域。等离子炬雾化制粉设备中航迈特2016年3月28日近年来开发的用氢氧火焰连续熔制石英玻璃砣的息、半导体光纤通信、电光源、化工等行业。为原料、等离子法生产石英玻璃空心砣后再拉制成管 3．4．3气相沉积法材。以SiC1和掺杂物的低沸点化合物为原料，在一 4．1．2高纯石英玻璃套管石英玻璃的制备与应用pdf 6页原创力文档

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2021年9月18日光纤行业要求石英材料的红外透过能力，只能选择高纯进口粉料+等离子制砣工艺制取的石英材料，或采用化学合成工艺制取的合成石英材料;半导体工艺尽量选择气炼法或等离子法取得的材料，电光源等低价值应用本身不要等离子灰化机 – 位于 Ebhausen 的 Diener electronic GmbH + Co KG – 您的等离子设备和聚对二甲苯设备合作伙伴。现在了解！通过蚀刻于氧气等离子体中进行，能够很好的分解碳氢化合物。这种效果在进行等离子清洗时用于去除聚合的表面污染物（例如：蜡、硅酮、油和油脂）。等离子灰化机 Plasma2018年8月6日等离子表面处理设备在生产活动中使用广泛，对许多生产活动都有帮助，对于等离子设备如何工作与工作原理，请往下看，来自【诚峰智造】等离子技术领导品牌。的专业介绍！等离子体是物质的一种存在状态，通常物质以固等离子设备是如何工作的？知乎Plasmatreat（普思玛）是等离子技术领域里值得信赖的品牌。领先的工业等离子设备制造商和供应商。您身边的普思玛我们遍布全球的研发中心、分公司及销售网络，我们都能在您的身边为您提供技术支持和服务。普思玛中国 Plasmatreat

等离子设备百度百科

等离子体指部分或完全电离的气体，且自由电子和离子所带正、负电荷的总和完全抵消，宏观上呈现中性电。等离子体又叫做电浆，是由部分电子被剥夺后的原子及原子被电离后产生的正负电子组成的离子化气体状物质，它广泛存在于宇宙中，常被视为是除去固、液、气外，物质存在的第四态。421 等离子弧焊设备的组成等离子弧焊设备由焊接电源、等离子弧发生器（焊枪）、控制电路、供气回路及供水回路等组成。自动等离子弧焊接系统还包括焊接小车、转动夹具的行走机构和控制电路等。图 43 为典型手工等离子弧焊接系统（大电流等离子弧知乎盐选 42 等离子弧焊设备及工艺2021年9月18日广西建设工程项目管理中心有限责任公司受广西神光光学科技有限责任公司委托，根据《招标投标法》等有关规定，现对新建 600 吨 / 年合成熔石英玻璃锭料项目制砣机设备采购项目进行公开招标，现将有关事项公告如下。广西建设工程项目管理中心有限责任公司2024年2月22日等离子水洗设备商品类型：半导体尾气处理设备产品描述：低氮氧化合物（NOx）等离子火炬可释放超过3000℃的高温更高效的处理易燃气体、有毒气体和PFCs气体,尤其是对PFCs气体的处理能力经过特殊设计的水淋系统，水溶性尾气处理时并且不产生水雾等离子水洗设备吉姆西半导体

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内联设备内联设备是指用于在真空中自动进行内联处理的等离子体钟形设备。在此，将会自动将带有待处理样品的产品支架引至腔室（钟罩）下方，并开始一个等离子工艺流程。其能够毫无问题地集成于现有的生产线中。典型的工艺步骤为：关闭腔室、产生真空、引入工艺气体、点燃等离子体 2020年4月17日铜制水冷结晶器可以防止金属二次污染，加快铸锭凝固，把精炼效果保存下来，同时有助于在铸锭中形成定向结构图7 设备工作示意图 1等离子枪；2舱门；3熔炼室；4坯料纵向移动舵机；5自耗坯料；6自耗坯料输送室；7坯料旋转滚筒；8 等离子体技术在冶炼和铸造生产中的应用（下）知乎